Gambaran Keseluruhan Fotoresis
Fotoresist, juga dikenali sebagai fotoresist, merujuk kepada bahan filem nipis yang keterlarutannya berubah apabila terdedah kepada cahaya UV, pancaran elektron, pancaran ion, sinar-X atau sinaran lain.
Ia terdiri daripada resin, fotopemula, pelarut, monomer dan bahan tambahan lain (lihat Jadual 1). Resin fotoresis dan fotopemula adalah komponen terpenting yang mempengaruhi prestasi fotoresis. Ia digunakan sebagai salutan anti-karat semasa proses fotolitografi.
Apabila memproses permukaan semikonduktor, penggunaan fotoresis terpilih yang sesuai boleh menghasilkan imej yang diingini pada permukaan.
Jadual 1.
| Bahan-bahan Fotoresis | Prestasi |
| Pelarut | Ia menjadikan fotoresis cecair dan meruap, dan hampir tidak mempunyai kesan terhadap sifat kimia fotoresis. |
| Pemrakam foto | Ia juga dikenali sebagai fotosensitizer atau agen fotokulasi, merupakan komponen fotosensitif dalam bahan fotoresis. Ia merupakan sejenis sebatian yang boleh terurai menjadi radikal bebas atau kation dan memulakan tindak balas penghubung silang kimia dalam monomer selepas menyerap tenaga ultraungu atau cahaya nampak pada panjang gelombang tertentu. |
| Resin | Ia adalah polimer lengai dan bertindak sebagai pengikat untuk menyatukan bahan-bahan yang berbeza dalam fotoresis, memberikan fotoresis sifat mekanikal dan kimianya. |
| Monomer | Ia juga dikenali sebagai pengencer aktif, merupakan molekul kecil yang mengandungi kumpulan berfungsi yang boleh dipolimerkan dan merupakan sebatian berat molekul rendah yang boleh mengambil bahagian dalam tindak balas pempolimeran untuk membentuk resin berat molekul tinggi. |
| Bahan tambahan | Ia digunakan untuk mengawal sifat kimia khusus fotoresis. |
Fotoresis dikelaskan kepada dua kategori utama berdasarkan imej yang dibentuknya: positif dan negatif. Semasa proses fotoresis, selepas pendedahan dan perkembangan, bahagian salutan yang terdedah akan dilarutkan, meninggalkan bahagian yang tidak terdedah. Salutan ini dianggap sebagai fotoresis positif. Jika bahagian yang terdedah kekal sementara bahagian yang tidak terdedah dilarutkan, salutan tersebut dianggap sebagai fotoresis negatif. Bergantung pada sumber cahaya pendedahan dan sumber sinaran, fotoresis selanjutnya dikategorikan sebagai UV (termasuk fotoresis UV positif dan negatif), fotoresis UV dalam (DUV), fotoresis sinar-X, fotoresis pancaran elektron dan fotoresis pancaran ion.
Fotoresis digunakan terutamanya dalam pemprosesan corak berbutir halus dalam panel paparan, litar bersepadu dan peranti semikonduktor diskret. Teknologi pengeluaran di sebalik fotoresis adalah kompleks, dengan pelbagai jenis dan spesifikasi produk. Pembuatan litar bersepadu industri elektronik mengenakan keperluan yang ketat ke atas fotoresis yang digunakan.
Ever Ray, sebuah pengeluar dengan pengalaman selama 20 tahun yang mengkhusus dalam pengeluaran dan pembangunan resin fotoawet, mempunyai kapasiti pengeluaran tahunan sebanyak 20,000 tan, rangkaian produk yang komprehensif dan keupayaan untuk menyesuaikan produk. Dalam fotoresist, Ever Ray mempunyai 17501 resin sebagai komponen utama.
